Ta strona korzysta z ciasteczek aby świadczyć usługi na najwyższym poziomie. Dalsze korzystanie ze strony oznacza, że zgadzasz się na ich użycie.

Czyszczenie chemiczne aniloksów

Powrót do usług

Czyszczenie chemiczne aniloksów

Metoda stara, ale skuteczna i wydajna, zastępująca starsze i nieefektywne metody – mycie wodą z farb wodnych i posiadanymi rozcieńczalnikami – z farb alkoholowych/solwentowych.

Dzięki zastosowaniu przeznaczonych do tego celu środków chemicznych – serii RECYL dopasowanych do poszczególnych rodzajów farb, w tym farb UV i lakierów oraz środków uniwersalnych jesteśmy w stanie osiągnąć w stosunkowo krótkim czasie oczekiwane przez drukarzy rezultaty. Do znacznego przyśpieszenia procesu czyszczenia / mycia doszliśmy jako pierwsi poprzez zastosowanie w ostatnim etapie myjki ciśnieniowej celem usunięcia wodą rozmiękczonych przez środek chemiczny pozostałości farb, lakierów i ich spłukania.

Tę metodę stosujemy jeszcze głównie w sektorze produkcji i zadruku kartonów z tektury falistej, gdzie dominują farby wodne. Stosujemy ją przede wszystkim tam, gdzie wymagany jest krótki postój maszyny i wyczyszczenie kilku wałków rastrowych w tym czasie. Jesteśmy w stanie sprostać niemalże każdym postawionym przez Zleceniodawcę warunkom w zakresie skuteczności i czasu usługi, a także ekologii, bowiem stosowane przez nas środki chemiczne ulegają biodegradacji bezpośrednio, bądź w zależności od rodzaju, po ich zneutralizowaniu na miejscu w trakcie lub po zakończeniu procesu czyszczenia.

Posiadaną gamą środków chemicznych rozwiązujemy każdy problem drukarza z tego zakresu, chętnie wspieramy i doradzamy, jeśli zachodzi taka potrzeba, jakie środki i jakie metody zastosować do bieżącego mycia / płukania wałków i zespołów drukowych.

Wieloletnim doświadczeniem dowodzimy korzyści dla klienta poprzez regularne czyszczenia gruntowne, wskazujemy zasadność wdrożenia harmonogramów czyszczeń, które dają namacalne efekty już w następnym okresie / roku w postaci oszczędności czasowych i tym samym finansowych (szybsze czyszczenie = krótsze postoje = wyższa wydajność)